PRODUCT製品情報
表面処理製品
DLC成膜装置
PBII&D装置 R&D中型機仕様PBII―C600
コンパクトなサイズで試験片作製や基礎データ採取に最適な装置。
真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。
- 電源入力
- 真空装置サイズ(mm)
- 高圧パルス電源
- 3ΦAC200V±10%
50／60Hz
約30kVA - φ650×L450
前面扉式 - 出力電圧 -20kVp
出力電流 45Ap
充電容量 8kW
PBII&D装置 中型機仕様PBII―C2000
真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能。
- 電源入力
- 真空装置サイズ(mm)
- 高圧パルス電源
- 3ΦAC200V±10%
50／60Hz
約80kVA - 両面扉式、サイズφ1200mm×L2000mm
（約2230L） - 出力電圧 -20kVp
出力電流 90Ap
充電容量 16kW
PBII&D装置 R&D小型機仕様PBII―R450
コンパクトなサイズで試験片作成や基礎データ採取に最適な装置。
真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。
- 電源入力
- 真空装置サイズ(mm)
- 高圧パルス電源
- 3ΦAC200V±10%
50／60Hz
約25kVA - 410×410×410
片面扉式 - 出力電圧 -20kVp
出力電流 45Ap
充電容量 1.5kW
PBII&D装置 標準機仕様PBII―R1000
取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
- 電源入力
- 真空装置サイズ(mm)
- 高圧パルス電源
- 3ΦAC200V±10%
50／60Hz
約30kVA - 900×1000×1090
両面扉式 - 出力電圧 -20kVp
出力電流 45Ap
充電容量 8kW
PBII&D装置 標準大型機仕様PBII―R1500
R1000の約4倍の容積を持つ大型機｡
R1000と同様の使い易さで大型･長尺ワークへの成膜も可能｡
- 電源入力
- 真空装置サイズ(mm)
- 高圧パルス電源
- 3ΦAC200V±10%
50／60Hz
約50kVA - 1500×1500×1600
両面扉式 - 出力電圧 -20kVp
出力電流 90Ap
充電容量 24kW
