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DLC成膜装置

PBII&D装置 標準大型機仕様PBII―R1500

R1000の約4倍の容積を持つ大型機です。
R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能です。

PBII R1500

電源入力3ΦAC200V±10% 50/60Hz  約50kVA
真空槽サイズ両面扉式 サイズ1500mm×1500mm×1600mm(約3600L)
制御方式手動運転/自動運転(タッチパネル入力)
排気完了真空圧力1.33×10-3Pa以下(1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)
真空ポンプターボ分子ポンプ2台、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール自動圧力制御弁(300Aフランジ)2系統
真空計電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源出力電圧-20kVp、出力電流 100Ap、充電容量24kW
出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5000 Hz
パルスRF電源3000W(13.56MHz)
標準計測器デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
サイズ(mm)真空装置:3250(W)×2854(H)×1800(D)
操作盤:1550(W)×1780(H)×800(D)
高圧パルス電源盤:1700(W)×1730(H)×940(D)
電源収納盤:675(W)×1720(H)×900(D)
オプション冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー
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