PRODUCT製品情報
DLC成膜装置
PBII&D装置 標準大型機仕様PBII―R1500
R1000の約4倍の容積を持つ大型機です｡
R1000と同様の使い易さで大型･長尺ワークへの成膜も可能です｡
PBII R1500
| 電源入力 | 3ΦAC200V±10% 50／60Hz 約50kVA |
|---|---|
| 真空槽サイズ | 両面扉式 サイズ1500mm×1500mm×1600mm（約3600L） |
| 制御方式 | 手動運転／自動運転（タッチパネル入力） |
| 排気完了真空圧力 | 1.33×10-3Pa以下（1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能） |
| 真空ポンプ | ターボ分子ポンプ2台、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ |
| ガス圧力コントロール | 自動圧力制御弁（300Aフランジ）2系統 |
| 真空計 | 電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ |
| マスフローコントローラ | 7系統（Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO） |
| 高圧パルス電源 | 出力電圧-20kVp、出力電流 90Ap、充電容量24kW 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz～5000 Hz |
| パルスRF電源 | 3000W（13.56MHz） |
| 標準計測器 | デジタルオシロスコープ（出力電圧、出力電流） |
| サイズ（mm） | 真空装置：3250（W）×2854（H）×1800（D） 操作盤：1550（W）×1780（H）×800（D） 高圧パルス電源盤：1700（W）×1730（H）×940（D） 電源収納盤：675（W）×1720（H）×900（D） |
| オプション | 冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー |
