COMPANY会社案内

特殊電源の製造のほか、プラズマによる加工も行える会社です

既製の電源では自社の技術を最大限に活かせないとお困りのお客様のご要望にお応えするため、
当社はこれまで試行錯誤を繰り返して、オーダーメイドの電源を製作して参りました。
また現在は電源の製作だけでなく、産業技術総合研究所関西センターと共に開発して特許を取得した、
プラズマイオン注入・成膜装置によるDLCコーティングも行なっています。

会社概要

会社名
株式会社 栗田製作所
創業
1949年3月30日
法人設立
1960年3月21日
資本金
100 百万円
所在地
【本社・京都事業部】
〒610-0221 京都府綴喜郡宇治田原町湯屋谷西塔ヶ谷1-33 宇治田原工業団地内
TEL:0774-88-4811(代) FAX:0774-88-3708
【前橋事業部】
〒371-0852 群馬県前橋市総社町総社2112
TEL:027-251-3901(代) FAX:027-253-6784
営業品目
【電気電子機器製造販売】
・DLC成膜装置(プラズマイオン注入成膜装置=PBII&D)
・大気圧プラズマ生成用電源
・液中プラズマ発生装置
・高圧パルス電源
・自動制御盤設計製作
・送配電用機器(遮断機・変成器)組立配線

【表面改質】
・高密着,大面積DLCコーティングサービス

【販売代理店】
・高電圧プローブ
役員
代表取締役社長 猪飼 光章
取締役 三浦 麻砂子
取引銀行
京都信用金庫(宇治支店)、商工中金(京都支店)、群馬銀行(総社支店)、京都銀行(宇治田原支店)

会社沿革

1949年3月
日新電機株式会社の協力工場として京都市内で創業
1960年3月
宝電機と合併し、株式会社栗田製作所設立
1962年3月
資本金を1,000万円に増資
1963年3月
群馬県前橋市に前橋工場を新設
1990年4月
京都府宇治田原町・宇治田原工業団地へ移転(8,683m2
1990年9月
前橋工場を拡張 (5,500m2
1990年12月
資本金を2,000 万円に増資
1996年4月
科学技術振興事業団補助金を得て「三次元イオン注入用パルス電源の開発」に成功
1999年
工業技術院大阪工業技術研究所と「RF・高電圧パルス重畳法プラズマイオン注入技術」を開発 (特許を出願)
2002年
経済産業省新規産業創造技術開発補助金を得て「高密着厚膜DLCコーティング技術の開発」に成功
2002年
「プラズマイオン注入・成膜装置」として販売開始
2003年4月
DLCコーティングサービス事業を開始 (京都工場および前橋工場)
2004年2月
京都府中小企業優秀技術賞を受賞「高密着超厚膜DLCコーティング技術の開発」
2004年4月
プラズマイオン注入・成膜法【特許第3517749号・第3555928号】を取得
2006年
近畿経済産業局から、特定研究開発等計画「高精度加工用大型ダイヤモンド切削工具の開発」で認定 (近畿0608029号)を受ける
2007年8月
平成18年度戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)に上記が採択される
2007年8月
第2回ものづくり日本大賞(経済産業省) 優秀賞を受賞「環境と安全と省エネに優れたDLC厚膜を大型産業製品に広めたイオン注入・成膜技術」(製品・技術開発部門)
2008年6月
(独)中小企業基盤整備機構「中小企業産学官連携成功128社」に選定される
2009年4月
中小企業庁「2009年元気なモノ作り中小企業300社」に選定される
2009年9月
平成21年度愛知ナノテクものづくりクラスター事業「液中連続プラズマを用いた金属ナノ微粒子の工業化実証」に採択 (2年間)される
2010年1月
平成22年度新事業活動促進支援補助金(新連携支援事業)「新開発装置工法による6~10ミリ角単結晶ダイヤ板材の製造販売事業」に採択される
2010年4月
京都府発明考案功労者表彰 優秀賞(京都府知事賞)を受賞
2010年11月
京都中小企業優良企業賞(京都府知事賞)を受賞
2010年12月
「DLC膜の成膜方法およびDLC成膜物」【特許第4658506号】を取得
2011年2月
液中プラズマ発生用電源(1kW/30kHz)を開発・販売(開始)
2013年4月
液中プラズマ発生用電源をSiC素子化、1kW/200kHz機を開発・販売(開始)
2014年10月
資本金を10,000 万円に増資
2015年3月
スーパークラスタープログラム「次世代イオン注入応用表面改質装置用SiC多段高電圧・高速スイッチの開発及び実機実装」に採択。SiC素子での電源の多種化開発を開始
2016年4月
液中プラズマ発生用電源(2kW/300kHz/SiC)を開発・販売(開始)
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