PRODUCT製品情報

DLC成膜装置

PBII&D装置 標準機仕様PBII―R1000

取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

PBII R1000

電源入力3ΦAC200V±10% 50/60Hz  約30kVA
真空槽サイズ両面扉式、サイズ900mm×1000mm×1090mm(約1000L)
制御方式手動運転/自動運転(タッチパネル入力)
排気完了真空圧力1.33×10-3Pa以下(1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)
真空ポンプターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール自動圧力制御弁(250Aフランジ)
真空計電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源出力電圧-20kVp、出力電流 50Ap、充電容量8kW
出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5000 Hz
パルスRF電源1500W(13.56MHz)
標準計測器デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
サイズ(mm)真空装置:2500(W)×2380(H)×1100(D)
操作盤:1210(W)×1685(H)×800(D)
高圧パルス電源盤:850(W)×1730(H)×940(D)
オプション冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー
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