PRODUCT製品情報
DLC成膜装置
PBII&D装置 標準機仕様PBII―R1000
取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
PBII R1000
| 電源入力 | 3ΦAC200V±10% 50／60Hz 約30kVA |
|---|---|
| 真空槽サイズ | 両面扉式、サイズ900mm×1000mm×1090mm（約1000L） |
| 制御方式 | 手動運転／自動運転（タッチパネル入力） |
| 排気完了真空圧力 | 1.33×10-3Pa以下（1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能） |
| 真空ポンプ | ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ |
| ガス圧力コントロール | 自動圧力制御弁（250Aフランジ） |
| 真空計 | 電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ |
| マスフローコントローラ | 7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO) |
| 高圧パルス電源 | 出力電圧-20kVp、出力電流 45Ap、充電容量8kW 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz～5000 Hz |
| パルスRF電源 | 1500W（13.56MHz） |
| 標準計測器 | デジタルオシロスコープ（出力電圧、出力電流） |
| サイズ（mm） | 真空装置：2500（W）×2380（H）×1100（D） 操作盤：1210（W）×1685（H）×800（D） 高圧パルス電源盤：850（W）×1730（H）×940（D） |
| オプション | 冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー |
