PRODUCT製品情報
DLC成膜装置
PBII&D装置 R&D小型機仕様PBII―R450
サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。
真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。
PBII R450
| 電源入力 | 3ΦAC200V±10% 50／60Hz 約25kVA |
|---|---|
| 真空槽サイズ | 片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm（約70L） |
| 制御方式 | 手動運転／自動運転（タッチパネル入力） |
| 排気完了真空圧力 | 1.33×10-3Pa以下（1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能） |
| 真空ポンプ | ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ |
| ガス圧力コントロール | 自動圧力制御弁（200Aフランジ） |
| 真空計 | 電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ |
| マスフローコントローラ | 7系統（Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO） |
| 高圧パルス電源 | 出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz～5000 Hz |
| パルスRF電源 | 750W（13.56MHz） （1500Wに仕様変更可能） |
| 標準計測器 | デジタルオシロスコープ（出力電圧、出力電流） |
| サイズ（mm） | 真空装置：2150（W）×1705（H）×900（D） 操作盤：1210（W）×1685（H）×800（D） 高圧パルス電源盤：850（W）×1730（H）×940（D） |
| オプション | 冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー |
