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  PEKURISトップページ 即納製品情報> プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1500
電源製品  

社内設備入替えの為、大幅特価での中古装置の販売を行ないます。
価格及び納期についてはお問い合わせください。
電源、ポンプ類は全てオーバーホール後のお引渡しとなります。
PBII-R1500はチャンバサイズ、横1500mm、高さ1500mm、奥行き最大1800mmとPBII-R1000に比べ
容積比で5倍の大型装置です。PBII-R1000と同様な使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能になりました。
弊社独自技術の大容量電源を複数個搭載する事で、安定したプラズマ生成や大型ワークへのコーティングも
安定して実現しました。
成膜有効範囲は、横幅1200mm、奥行き1200mm、高さ1000mmに収まるサイズであれば処理が可能です。
但し、形状等により、この範囲内でも処理不可のワークもございますので、お問合せ下さい。
プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1500 標準スペック表
電源入力  3φAC200V±10% 50/60Hz 約85kVA
真空装置サイズ  両面扉式 :1500o×1800o×1500o
制御方式  シーケンサ制御方式 自動/手動運転切替  データログ機能
到達真空度  5×10-4Pa以下
真空ポンプ  ターボ分子ポンプ2台,メカニカルブースター,ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール  自動圧力制御弁(300A 2系統)
真空計  電離真空計,隔膜真空計,デジタル圧力スイッチ
MFC  7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源  出力電圧:-20kV,出力電流:100Ap,充電容量:24kJ
 出力パルス立上り:1μs以下(但し抵抗負荷時)
 繰返し周波数:500pps〜5000pps
パルスRF電源  3000W(13.56MHz)
標準計測器  デジタルオシロスコープ
外形寸法  真空装置システム:幅1700o,奥行1620o,高さ2354o
 操作盤:幅1550o,奥行き800o,高さ1780o
 高圧パルス電源盤:幅1700o,奥行940o,高さ1724o
 電源収納盤:幅570o,奥行900o,高さ1750o
オプション   ・クライオポンプ
 ・冷却水用チラー
 ・排ガス処理装置
 ・コンプレッサー
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