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  PEKURISトップページ表面処理製品情報プラズマイオン注入成膜装置TOP装置ラインナップ> PBII-R450
電源製品  

サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。
真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にも繋がります
PBII-R450 装置仕様
電源入力  3ΦAC200V±10%  50/60Hz 約25kVA
真空装置サイズ(mm)  片面扉式 サイズ410×410×410
制御方式  手動運転(タッチパネル入力)
到達真空圧力  5×10-4Pa以下
真空ポンプ  ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール  自動圧力制御弁(200A)
真空計  電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ  7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源  出力電圧-20kVp、出力電流10Ap、充電容量1.5kJ
 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
 繰返し周波数 500pps〜5000pps
パルスRF電源  750W(13.56MHz)
標準計測器  デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
外形寸法(mm)  真空チャンバー:幅2150、奥行900、高さ1700
 操作盤:幅1100、奥行800、高さ1667
 高圧パルス電源盤:幅850、奥行940、高さ1724
オプション  自動制御システム、冷却水用チラー
 排ガス処理装置、コンプレッサー
パルス電源
直流電源
電源コンポーネント
 
プラズマ応用製品
液中プラズマ
大気圧プラズマ
 
表面処理製品
DLC成膜装置
PBII&D R450
PBII&D R1000
PBII&D R1500
PBII&D C600
PBII&D C2000
DLC受託加工
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