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  PEKURISトップページ表面処理製品情報プラズマイオン注入成膜装置TOP装置ラインナップ> PBII-R1500
電源製品  

R1000の5倍の容積を持つ大型機です。
R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの
成膜も可能です。
PBII-R1500 装置仕様
電源入力  3ΦAC200V±10%  50/60Hz 
真空装置サイズ(mm)  両面扉式 サイズ1500×1800×1500
制御方式  シーケンサ制御方式(手動・自動運転化) データログ機能
到達真空圧力  5×10-4Pa以下
真空ポンプ  ターボ分子ポンプ×2台、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール  自動圧力制御弁(300A)2系統
真空計  電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ  7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源  出力電圧-20kVp、出力電流100Ap、充電容量24kJ
 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
 繰返し周波数 500pps〜5000pps
パルスRF電源  3000W(13.56MHz)
標準計測器  デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
外形寸法(mm)  真空チャンバー:幅1700、奥行1620、高さ2354
 操作盤:幅1550、奥行800、高さ1780
 高圧パルス電源盤:幅850、奥行940、高さ1724
 電源収納盤:幅570、奥行900、高さ1750
オプション  排ガス処理装置、冷却水用チラー
 コンプレッサー、クライオポンプ
パルス電源
直流電源
電源コンポーネント
 
プラズマ応用製品
液中プラズマ
大気圧プラズマ
 
表面処理製品
DLC成膜装置
PBII&D R450
PBII&D R1000
PBII&D R1500
PBII&D C600
PBII&D C2000
DLC受託加工
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