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  PEKURISトップページ表面処理製品情報プラズマイオン注入成膜装置TOP装置ラインナップ> PBII-R1000
電源製品  

取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、
多くのユーザー様で採用されております。
PBII-R1000 装置仕様
電源入力  3ΦAC200V±10%  50/60Hz 約30kVA
真空装置サイズ(mm)  両面扉式 サイズ900×1000×1090
制御方式  自動/手動運転切替
到達真空圧力  5×10-4Pa以下
真空ポンプ  ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール  自動圧力制御弁(250A)
真空計  電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ  7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源  出力電圧-20kVp、出力電流50Ap、充電容量8kJ
 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
 繰返し周波数 500pps〜5000pps
パルスRF電源  1500W(13.56MHz)
標準計測器  デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
外形寸法(mm)  真空チャンバー:幅2500、奥行1000、高さ2373
 操作盤:幅1100、奥行800、高さ1667
 高圧パルス電源盤:幅850、奥行940、高さ1724
オプション  排ガス処理装置、冷却水用チラー
 コンプレッサー、クライオポンプ、回転機構付スパッタ源
パルス電源
直流電源
電源コンポーネント
 
プラズマ応用製品
液中プラズマ
大気圧プラズマ
 
表面処理製品
DLC成膜装置
PBII&D R450
PBII&D R1000
PBII&D R1500
PBII&D C600
PBII&D C2000
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