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  PEKURISトップページ表面処理製品情報プラズマイオン注入成膜装置TOP装置ラインナップ> PBII-C600
電源製品  

サイズがコンパクトの為、試験片作成や。基礎データ採取に最適な装置になっております。
真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にも繋がります。
PBII-C600 装置仕様
電源入力  3ΦAC200V±10%  50/60Hz 約30kVA
真空装置サイズ(mm)  片面扉式 サイズΦ650×L450
制御方式  シーケンサ制御方式 手動運転
到達真空圧力  5×10-4Pa以下
真空ポンプ  ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール  自動圧力制御弁(200A)
真空計  電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ  7系統(Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源  出力電圧-20kVp、出力電流50Ap、充電容量4kJ
 出力パルス立上り1μs以下(但し抵抗負荷時)
 繰返し周波数 500pps〜5000pps
パルスRF電源  1500W(13.56MHz)
標準計測器  デジタルオシロスコープ(出力電圧、出力電流)
外形寸法(mm)  真空チャンバー:幅1050、奥行1050、高さ1768
 操作盤:幅1100、奥行750、高さ1667
 高圧パルス電源盤:幅850、奥行940、高さ1650
オプション  自動制御システム、排ガス処理装置、冷却水用チラー
 コンプレッサー、マスフローコントローラー
パルス電源
直流電源
電源コンポーネント
 
プラズマ応用製品
液中プラズマ
大気圧プラズマ
 
表面処理製品
DLC成膜装置
PBII&D R450
PBII&D R1000
PBII&D R1500
PBII&D C600
PBII&D C2000
DLC受託加工
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